「知財管理」誌

Vol.71 記事詳細

掲載巻(発行年) / 号 / 頁	71巻(2021年) / 11号 / 1465頁
論文区分	論説
論文名	中国における他者特許対応の実務
著者	本橋たえ子
抄録	近年、中国においては、特許、実用新案等の専利出願が急激に増加するとともに、専利権をはじめとする知財訴訟の件数も右肩上がりで増加し続けている。これに伴い、中国に現地法人を擁する日系企業が、特許権、実用新案権等の専利権侵害訴訟において、被告の立場に立たされるリスクも増大し、中国における他者特許への対応の重要性がさらに高まりつつある。中国における他者特許への対応は、その大枠こそ、日本や諸外国におけるそれと大きく変わるところはないが、実務上、注意すべき点もいくつか存在する。そこで、本稿では、中国における他者特許対応について、特に、特許権、実用新案権を中心として、事前の対応と事後的な対応に分けて、それらを横断的に俯瞰し、それぞれの流れを説明するとともに、各対応フェーズにおける関連する法制度と実務上の留意点について説明する。