シンポジウム・フォーラム

第11回 JIPA 知財シンポジウム開催

「がんばろう日本、技術とブランドで創る未来！」
～市場創造、新規市場攻略に向けた経営と知財戦略～

【日　　時】	2012年2月24日(金)　9:45～17:40
【会　　場】	東京国際フォーラム　ホールＣ及びホールＤ５
【開催趣旨】	日本の技術はその高い品質や安心・安全の面から評価され、また、そのブランドは広く、強く信頼されてきました。これは、真面目で手を抜かず妥協を許さない技術者魂と自己の商品、事業、会社への強い愛着とお客様への細かい心遣いといった日本人の誇るべき気質によるものです。現在、日本経済は、新興国勢力の台頭、東日本大震災の被害、その後の円高等により厳しい状況にありますが、Japanのブランドとこれを支える技術によって、必ずや復活するものと思います。　本シンポジウムでは、これまでの日本・日本企業の活動を振り返り、今後やるべきことを確認して、「技術とブランドによる経営像とそこに活きる知財戦略の役割を見定め、新たな未来を創るシナリオ」をお話しいただきます。
【プログラム】	9:45	■ 開会挨拶 JIPA理事長　河本健二
	9:50	日米欧三極特許庁長官からのメッセージ
	10:05	■基調鼎談「技術が市場を創造し、ブランドが市場を開拓する」パネリスト：加藤　勝久　氏（旭硝子　代表取締役　専務執行役員）安藤　宏基　氏（日清食品ホールディングス　代表取締役社長CEO）岡林　理　氏（レーザーテック　代表取締役社長）モデレータ：町田　芳之　氏（クリエイティブコネクション、代表取締役）
	12:00	昼休み＆専門委員会ポスターセッション　（ホールＤ５）
	13:15	■パネルディスカッションⅠ テーマ：「技術開発とブランド育成」パネリスト：岩井　清　氏（村田製作所）別所　弘和　氏（本田技研工業) 鈴木　俊昭　氏（富士フイルム）田中　利博　氏（大塚製薬）モデレータ：土生　哲也氏（土生特許事務所）
	15:00	昼休み＆専門委員会ポスターセッション　（ホールＤ５）
	15:45	■パネルディスカッションⅡ テーマ：新興市場における「技術活用とブランド展開」パネリスト：トーマス　リーブス　氏（ＩＢＭ）パク　スンゴン　氏（サムスン電子）別宮　智徳　氏（日産自動車）地曵　慶一　氏（ユニ・チャーム）モデレータ：新宅　純二郎氏（東京大学）
	17:30	■閉会挨拶 JIPA専務理事　中山喬志