「知財管理」誌
Vol.56 記事詳細
| 掲載巻(発行年) / 号 / 頁 | 56巻(2006年) / 7号 / 1071頁 |
| 論文区分 | 協会活動 |
| 論文名 | 2005年度海外研修（F2コース）報告―米国特許制度，法規および判例の研修― |
| 著者 | 2005年度海外研修団（F2） |
| 抄録 | 2005年10月3日から10月28日にかけて、ワシントンD.C.でF2セミナーが開催された。日本知的財産協会主催の海外研修F2コースは米国の特許制度、裁判制度の体系的な学習を目的とし、約6ヶ月の事前研修、4週間のワシントンD.C.での現地セミナー及び事後研修で構成される。本報告は、本研修に参加した海外研修団でワシントンDCに於けるセミナーの概要を纏めたものである。 |
| 本文PDF |
