「知財管理」誌
Vol.56 記事詳細
| 掲載巻(発行年) / 号 / 頁 | 56巻(2006年) / 3号 / 403頁 |
| 論文区分 | 特集(意匠・商標をめぐる環境変化と企業対応) |
| 論文名 | 商標と意匠の交錯―両面からの保護の可能性を求めて― |
| 著者 | 西村雅子 |
| 抄録 | ブランドのビジュアルアイデンティティが重要視されるようになった中、商標を意匠的に使用して需要者の購買意欲を刺激する場面、識別力を発揮し得る態様で意匠を使用する場面が増えた。法制面、審査実務面でも、商標の意匠的登録、意匠の商標的登録が可能となっている状況において、より厚い保護を求めて一つの対象の重畳的保護を図る必要があるのはもちろんのこと、商標、意匠とも登録可能なボーダーラインを狙うことにより、より「使える」権利を取得することができる。本稿は、商標、意匠の交錯場面における効果的な権利取得方法について、比較的最近の登録例を挙げつつ、実務的観点から考察する。 | 本文PDF |
