「知財管理」誌
Vol.71 記事詳細
| 掲載巻(発行年) / 号 / 頁 | 71巻(2021年) / 7号 / 1006頁 |
| 論文区分 | 知的財産Q&A(No. 182) |
| 論文名 | (No. 182) 拡充された関連意匠制度の留意点について |
| 著者 | 意匠委員会 第1小委員会 |
| 抄録 | 令和元年意匠法改正（令和2年4月1日施行）により、一貫したデザインコンセプトに基づき開発された製品群のデザインを保護するために関連意匠制度が拡充されました。改正により出願が可能となった基礎意匠（本意匠）の公報発行後の関連意匠出願は、関連意匠出願全体の25％程度1）を占めております。改正により拡充された関連意匠制度の実務上の留意点について、出願戦略、権利維持、クリアランスの面からQ&A形式で解説します。 |
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